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BK910涂層測厚儀說(shuō)明書(shū) 初稿

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點(diǎn)擊次數:3168 更新時(shí)間:2020年03月20日10:43:35 打印此頁(yè) 關(guān)閉

  1 概述  

本儀器是一種便攜式測量?jì)x,它能快速、無(wú)損傷、精密地進(jìn)行涂、鍍層厚度的測量。既可用于實(shí)驗室,也可用于工程現場(chǎng)。通過(guò)使用不同的測量頭,還可滿(mǎn)足多種測量的需要。本儀器能廣泛地應用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領(lǐng)域。是材料保護專(zhuān)業(yè)必備的儀器。

本儀器符合以下標準:

GB/T 49561985 磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量  磁性方法

GB/T 49571985 非磁性金屬基體上非導電覆蓋層厚度測量  渦流方法

JB/T 83931996 磁性和渦流式覆層厚度測量?jì)x

JJG 88995 磁阻法測厚儀

JJG 81893 《電渦流式測厚儀

特點(diǎn):

l 采用了磁性和渦流兩種測厚方法,即可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測量非磁性金屬基體上非導電覆蓋層的厚度;

l 可采用單點(diǎn)校準和兩點(diǎn)校準兩種方法對儀器進(jìn)行校準,并可用基本校準法對測量頭的系統誤差進(jìn)行修正,保證儀器在測量過(guò)程中儀器的準確性;

l 能快速自動(dòng)識別鐵基體與非鐵基體

l 具有電源欠壓指示功能

l 操作過(guò)程有蜂鳴聲提示;

l 設有兩種關(guān)機方式:手動(dòng)關(guān)機方式和自動(dòng)關(guān)機方式;

l 有負數顯示功能,保證儀器在零位點(diǎn)的校準準確性;

l 有顯示平均值、最大值、最小值功能[*];

 

1.1  測量原理

本儀器采用了磁性和渦流兩種測厚方法,可無(wú)損地測量磁性金屬基體( 如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等 )上非磁性覆蓋層的厚度(如鋁、鉻、銅、琺瑯、橡膠、油漆等)及非磁性金屬基體(如銅、鋁、鋅、錫等)上非導電覆蓋層的厚度(如:琺瑯、橡膠、油漆、塑料等)。

a) 磁性法(F型測量頭)

 當測量頭與覆蓋層接觸時(shí),測量頭和磁性金屬基體構成一閉合磁路,由于非磁性覆蓋層的存在,使磁路磁阻變化,通過(guò)測量其變化可導出覆蓋層的厚度。   

b) 渦流法(N型測量頭)

 利用高頻交變電流在線(xiàn)圈中產(chǎn)生一個(gè)電磁場(chǎng),當測量頭與覆蓋層接觸時(shí),金屬基體上產(chǎn)生電渦流,并對測量頭中的線(xiàn)圈產(chǎn)生反饋作用,通過(guò)測量反饋作用的大小可導出覆蓋層的厚度。 


QQ截圖20200320110634.png              



1.1 配置清單

名  稱(chēng)

數  量

主機

1臺

標準片

5片

基體

1塊[***]/2塊[****]

7號干電池

2個(gè)

產(chǎn)品包裝箱

1個(gè)

使用說(shuō)明書(shū)

1本


1.3   技術(shù)參數

 測量范圍:0-1250um[*]   0-1500um[**]

 工作電源:兩節5號電池

 測量精度誤差:零點(diǎn)校準 ±(1+3%H);二點(diǎn)校準±【(1%~3%H)】H+1.5

 環(huán)境溫度0-40℃

 相對濕度≤85%

 最小基體10*10mm  整體面積大于等于2cm,園觀(guān)直徑不小于2MM.

 最小曲率凸5mm;凹5mm

 最薄基體:0.4mm

 重量:99克(含電池)

 尺寸102mm*66mm*24mm

1.3.1電源

2×1.5V  AA (5) 

  2 概述按鍵及顯示說(shuō)明

QQ截圖20200320105344.png

  3 使用說(shuō)明

   1)開(kāi)機

    按下ON鍵后儀器聽(tīng)到一聲?shū)Q響,自動(dòng)恢復上次關(guān)機前的參數設置后,將顯示0.0μm,儀器進(jìn)入待測狀態(tài)??蓽y量工件了。經(jīng)過(guò)一段時(shí)間不使用儀器將自動(dòng)關(guān)機。

   2)關(guān)機

在無(wú)任何操作的情況下,大約3分鐘后儀器自動(dòng)關(guān)機。按一下“ON”鍵,立即關(guān)機。

            3)單位制式轉換(公制與英制轉換)

在待測狀態(tài)下,按μm/mil可轉換其測量單位。

           4)測量

      a)準備好待測試件

      b)是否需要校準儀器,如果需要,選擇適當的校準方法進(jìn)行(參照4儀器校準)

      c)迅速將測量頭與測試面垂直地接觸并輕壓測量頭定位套,隨著(zhù)一聲?shū)Q響,屏幕顯示測量值,儀器會(huì )自動(dòng)感應被測基體:感應到是磁性基體時(shí)儀器顯示Fe;感應到是非磁性金屬時(shí)儀器顯示NFe。測量時(shí)請始終保持儀器處于垂直狀態(tài)!提起測量頭可進(jìn)行下次測量;

  4 儀器的校準  

為使測量準確,應在測量場(chǎng)所對儀器進(jìn)行校準。


4.1校準標準片(包括箔和基體)

已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準標準片。簡(jiǎn)稱(chēng)標準片。

a) 校準箔

 對于磁性方法,“箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對于渦流方法,通常采用塑料箔?!安庇欣谇嫔系男?,而且比用有覆蓋層的標準片更合適。

b) 有覆蓋層的標準片

采用已知厚度的、均勻的、并與基體牢固結合的覆蓋層作為標準片。對于磁性方法,覆蓋層是非磁性的。對于渦流方法,覆蓋層是非導電的。


4.2  基體

a) 對于磁性方法,標準片基體金屬的磁性和表面粗糙度,應當與待測試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對于渦流方法,標準片基體金屬的電性質(zhì),應當與待測試件基體金屬的電性質(zhì)相似。為了證實(shí)標準片的適用性,可用標準片的基體金屬與待測試件基體金屬上所測得的讀數進(jìn)行比較。

b) 如果待測試件的金屬基體厚度沒(méi)有超過(guò)表一中所規定的臨界厚度,可采用下面兩種方法進(jìn)行校準:

1) 在與待測試件的金屬基體厚度相同的金屬標準片上校準;

2) 用一足夠厚度的,電學(xué)性質(zhì)相似的金屬襯墊金屬標準片或試件,但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無(wú)間隙。對兩面有覆蓋層的試件,不能采用襯墊法。

  c) 如果待測覆蓋層的曲率已達到不能在平面上校準,則有覆蓋層的標準片的曲率或置于校準箔下的基體金屬的曲率,應與試樣的曲率相同。


 4.3  校準方法 

本儀器有三種測量中使用校準方法: 零點(diǎn)校準、二點(diǎn)校準,還有一種針對測量頭的六點(diǎn)修正校準。本儀器的校準方法是非常簡(jiǎn)單的。 

 

4.3.1零點(diǎn)校準

a) 在基體上進(jìn)行一次測量,屏幕顯示<×.×μm>。

b) ZERO鍵,屏顯<0.0>。校準已完成,可以開(kāi)始測量了。

c) 重復上述a、b步驟可獲得更為精確的零點(diǎn),高測量精度。零點(diǎn)校準完成后就可進(jìn)行測量了。注:本儀器提供負數顯示,為用戶(hù)更方便的選擇零點(diǎn)。

4.3.2二點(diǎn)校準

這一校準法適用于高精度測量及小工件、淬火鋼、合金鋼。

a) 先校零點(diǎn)(如上述)。

b) 在厚度大致等于預計的待測覆蓋層厚度的標準片上進(jìn)行一次測量,屏幕顯示<×××μm>。

c) é  ê鍵修正讀數,使其達到標準值。校準已完成,可以開(kāi)始測量。

注:儀器é  ê在儀器校準時(shí),單次按將跳動(dòng)一個(gè)數,長(cháng)按不松開(kāi),將連續跳動(dòng)要修正的值。


4.4  六點(diǎn)修正校準

在下述情況下,改變基本校準是有必要的:

測量頭頂端被磨損、新?lián)Q的測量頭、特殊的用途。

在測量中,如果誤差明顯地超出給定范圍,則應對測量頭的特性重新進(jìn)行校準稱(chēng)為基本校準。通過(guò)輸入 6個(gè)校準值(1個(gè)零和5個(gè)厚度值),可重新校準測量頭,具體操作方法如下:

    a) 在儀器開(kāi)啟的狀態(tài)下,按順序連續、快速按下以下按鈕:圖片3.png、圖片4.png、圖片5.png、圖片6.png、圖片7.png,即可進(jìn)入六點(diǎn)修正校準;

     b) 先校零值。在六點(diǎn)修正校準界面的第一個(gè)界面,測一下沒(méi)有任何涂層的基體,然后按ZERO鍵,屏幕中的ADJ顯示0.0μm,按圖片8.png進(jìn)入下一點(diǎn)的校準;

    c) 校準儀器自帶校準片,把50μm的放到基體上,測一下50μm的厚度,測出來(lái)的(ADJ)數與校準片的值不符按é  ê調整到與校準片的值一樣(如50μm測出來(lái)是54μmê調整到50μm),然后按圖片8.png進(jìn)入下一點(diǎn)校準,接著(zhù)用相同的校準方法依次校準100μm、250μm、500μm、1000μm校準膜片; 

 d) 6點(diǎn)數據調整完之后,會(huì )出現對話(huà)框詢(xún)問(wèn)是否保存,按圖片7.png確認保存;

 e) 若使用其他膜片標準,須按厚度增加的順序,一個(gè)厚度上可做多次。每個(gè)厚度應至少是上一個(gè)厚度的1.6 倍以上,理想情況是2倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。最大值應該接近但低于測量頭的最大測量范圍;


注意: 每個(gè)厚度應至少是上一個(gè)厚度的1.6 倍以上,否則視為基本校準失敗,后面一個(gè)點(diǎn)必須大于500μm


 5 影響測量精度的因素  


5.1影響因素相關(guān)表

QQ截圖20200320110310.png

5.2影響因素的有關(guān)說(shuō)明

a) 基體金屬磁性質(zhì)

磁性法測厚受基體金屬磁性變化的影響(在實(shí)際應用中,低碳鋼磁性的變化可以認為是輕微的),為了避免熱處理和冷加工因素的影響,應使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標準片對儀器進(jìn)行校準;亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準。

b) 基體金屬電性質(zhì)

   基體金屬的電導率對測量有影響,而基體金屬的電導率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標準片對儀器進(jìn)行校準。

c) 基體金屬厚度

   每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度。大于這個(gè)厚度,測量就不受基體金屬厚度的影響。本儀器的臨界厚度值見(jiàn)附表1。

d) 邊緣效應

   本儀器對試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內轉角處進(jìn)行測量是不可靠的。

e) 曲率

   試件的曲率對測量有影響。這種影響總是隨著(zhù)曲率半徑的減少明顯地增大。因此,在彎曲試件的表面上測量是不可靠的。

f) 試件的變形

測量頭會(huì )使軟覆蓋層試件變形,因此在這些試件上測出可靠的數據。

g) 表面粗糙度

   基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對測量有影響。粗糙程度增大,影響增大。粗糙表面會(huì )引起系統誤差和偶然誤差,每次測量時(shí),在不同位置上應增加測量的次數,以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙,還必須在未涂覆的粗糙度相類(lèi)似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對儀器的零點(diǎn);或用對基體金屬沒(méi)有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后,再校對儀器的零點(diǎn)。

    h)磁場(chǎng)

周?chē)鞣N電氣設備所產(chǎn)生的強磁場(chǎng),會(huì )嚴重地干擾磁性法測厚工作。

    i)附著(zhù)物質(zhì)

   本儀器對那些妨礙測量頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著(zhù)物質(zhì)敏感,因此,必須清除附著(zhù)物質(zhì),以保證儀器測量頭和被測試件表面直接接觸。

    j)測量頭壓力

      測量頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì )影響測量的讀數,因此,要保持壓力恒定。

   k)測量頭的取向

    測量頭的放置方式對測量有影響。在測量中,應當使測量頭與試樣表面保持垂直。


5.3使用儀器時(shí)應當遵守的規定

a) N 基體金屬特性

   對于磁性方法,標準片的基體金屬的磁性和表面粗糙度,應當與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。

對于渦流方法,標準片基體金屬的電性質(zhì),應當與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。

b) 基體金屬厚度

   檢查基體金屬厚度是否超過(guò)臨界厚度,如果沒(méi)有,可采用3.3)中的某種方法進(jìn)行校準。

c) 邊緣效應

       不應在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內轉角等處進(jìn)行測量。

d) 曲率

 不應在試件的彎曲表面上測量。

e) 讀數次數

    通常由于儀器的每次讀數并不完全相同,因此必須在每一測量面積內取幾個(gè)讀數。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內進(jìn)行多次測量,表面粗造時(shí)更應如此。

f) 表面清潔度

    測量前,應清除表面上的任何附著(zhù)物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。



6 保養與維修  

6.1環(huán)境要求

嚴格避免碰撞、重塵、潮濕、強磁場(chǎng)、油污等。


6.2更換電池

本儀器在使用中,當電池電壓過(guò)低時(shí),即屏幕上的電池標志顯示為空,應盡快給儀器更換電池。更換電池時(shí)應特別注意電池安裝的正負極性的方向。


 6.3故障排除

1)更換電池

儀器5天以上不使用時(shí)應取出電池。當儀器出現低電壓提示時(shí)應更換電池,更換電池時(shí)請注意極性。

2)恢復出廠(chǎng)設置

開(kāi)機狀態(tài)下,在2秒內依次按下按鍵圖片9.png、▲、▲、▼、▼,屏幕顯示英文對話(huà)詢(xún)問(wèn)是否確認恢復出廠(chǎng)設置,要進(jìn)行恢復出廠(chǎng)設置,選擇<Yes>并按μm/mil確認。

3)測量頭校準修正

出現較大誤差(如:校準不當或有操作錯誤等)可作六點(diǎn)修正校準(見(jiàn)4.4),校準儀器。


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